Photoinduced Dehalogenation‐Based Direct In Situ Photolithography of CsPbBr3 Quantum Dots Micropatterns for Encryption and Anti‐Counterfeiting with High Capacity.

Autor:	Li, Wanting1 (AUTHOR), Wu, Manchun1 (AUTHOR), Chen, Haini1 (AUTHOR), Zhang, Peng1 (AUTHOR) kdxjlm@gmail.com, Cai, Zhixiong1 (AUTHOR), Cai, Shunyou1 (AUTHOR), Li, Feiming1,2,3,4 (AUTHOR) lfm1914@mnnu.edu.cn
Zdroj:	Small Structures. Sep2024, Vol. 5 Issue 9, p1-7. 7p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.