X‐Ray Multibeam Ptychography at up to 20 keV: Nano‐Lithography Enhances X‐Ray Nano‐Imaging.

Autor:	Li, Tang1 (AUTHOR), Kahnt, Maik2 (AUTHOR), Sheppard, Thomas L.3,4 (AUTHOR), Yang, Runqing5 (AUTHOR), Falch, Ken V.1 (AUTHOR), Zvagelsky, Roman6 (AUTHOR), Villanueva‐Perez, Pablo5 (AUTHOR), Wegener, Martin6 (AUTHOR), Lyubomirskiy, Mikhail1 (AUTHOR) mikhail.lyubomirskiy@desy.de
Zdroj:	Advanced Science. 8/14/2024, Vol. 11 Issue 30, p1-13. 13p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.