Plasma Chemical Deposition of Hydrogenated DLC Films with Different Hydrogen and sp3-Hybrid Carbon Content.

Autor:	Okhapkin, A. I.1 (AUTHOR) poa89@ipmras.ru, Drozdov, M. N.1 (AUTHOR), Yunin, P. A.1 (AUTHOR), Kraev, S. A.1 (AUTHOR), Radishev, D. B.2 (AUTHOR)
Zdroj:	Semiconductors. Jan2024, Vol. 58 Issue 1, p57-60. 4p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.