On Morphology of Aluminum–Gallium Nitride Layers Grown by Halide Vapor Phase Epitaxy: The Role of Total Reactants' Pressure and Ammonia Flow Rate.

Autor:	Jaroszynski, Piotr1 (AUTHOR) arianna.jaroszynska@unipress.waw.pl, Dabrowski, Michal1 (AUTHOR), Sadovy, Petro1 (AUTHOR), Bockowski, Michal1 (AUTHOR), Czernecki, Robert1 (AUTHOR), Sochacki, Tomasz1 (AUTHOR)
Zdroj:	Materials (1996-1944). Jul2024, Vol. 17 Issue 14, p3446. 15p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.