Multi‐ and Gray‐Scale Thermal Lithography of Silk Fibroin as Water‐Developable Resist for Micro and Nanofabrication.

Autor:	Rostami, Mohammadreza1 (AUTHOR), Marković, Aleksandra1 (AUTHOR), Wang, Ya1,2 (AUTHOR), Pernollet, Joffrey3 (AUTHOR), Zhang, Xiaosheng4 (AUTHOR), Liu, Xia1,5 (AUTHOR) xia.liu@bit.edu.cn, Brugger, Juergen1 (AUTHOR)
Zdroj:	Advanced Science. 3/27/2024, Vol. 11 Issue 12, p1-9. 9p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.