Effect of Treatment Conditions of Capacitor Structures Based on Porous Silicon and Ferroelectric on Their Dielectric Losses in the HF and Microwave Ranges.

Autor:	Semenova, O. V.1 (AUTHOR) olga-kipr@yandex.ru, Patrusheva, T. N.2 (AUTHOR), Yuzova, V. A.1 (AUTHOR), Lemberg, K. V.1 (AUTHOR), Railko, M. Yu.1 (AUTHOR), Podorozhnyak, S. A.1 (AUTHOR), Khol'kin, A. I.3 (AUTHOR)
Zdroj:	Theoretical Foundations of Chemical Engineering. Aug2023, Vol. 57 Issue 4, p628-632. 5p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.