Enhancing ceria slurry performance for shallow trench isolation chemical mechanical polishing through non-ionic surfactant addition.

Autor:	Zhang, Lifei1 (AUTHOR), Xie, Lile1 (AUTHOR), Lu, Xinchun1 (AUTHOR) xclu@tsinghua.edu.cn
Zdroj:	International Journal of Advanced Manufacturing Technology. Oct2023, Vol. 128 Issue 11/12, p4997-5010. 14p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.