Self-organized submicron structures in photoresist films by UV-laser irradiation at water-confined conditions.

Autor:	Ehrhardt, Martin1 (AUTHOR) martin.ehrhardt@iom-leipzig.de, Lai, Shengying1,2 (AUTHOR), Lorenz, Pierre1 (AUTHOR), Zajadacz, Joachim1 (AUTHOR), Han, Bing2 (AUTHOR) hanbing@njust.edu.cn, Zimmer, Klaus1 (AUTHOR) klaus.zimmer@iom-leipzig.de
Zdroj:	Applied Physics A: Materials Science & Processing. Sep2023, Vol. 129 Issue 9, p1-10. 10p. 1 Color Photograph, 1 Black and White Photograph, 2 Diagrams, 1 Chart, 2 Graphs.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.