Simulation of silicon etching in NF3 plasma reactor.

Autor:	Swami, H L1 (AUTHOR) hswami@ipr.res.in, Mehta, V1 (AUTHOR), Kumar, Yogendra1 (AUTHOR), Jariwala, Chetan1 (AUTHOR), Kumar, Rajesh1,2 (AUTHOR)
Zdroj:	Pramana: Journal of Physics. Sep2023, Vol. 97 Issue 3, p1-10. 10p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.