Material removal rate prediction and surface quality study for ultrasonic vibration polishing of monocrystalline silicon.

Autor:	Qu, Sheng1,2,3 (AUTHOR), Yu, Tao1 (AUTHOR), Meng, Fanwei1,2,3 (AUTHOR), Zhang, Chao1,2,3 (AUTHOR), Zhang, Xuewei1,2,3 (AUTHOR), Ma, Zhelun1,2,3 (AUTHOR), Wang, Zixuan1,2,3 (AUTHOR), Yu, Tianbiao1,2,3 (AUTHOR) tianbiaoyuneu@163.com, Zhao, Ji1,2,3 (AUTHOR) jzhao@mail.neu.edu.cn
Zdroj:	International Journal of Advanced Manufacturing Technology. Aug2023, Vol. 127 Issue 9/10, p4789-4802. 14p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.