高速旋转垂直热壁 CVD 外延生长 n 型 4H-SiC 膜的研究.

Autor: 韩跃斌1 hanshan@sicentury.com, 蒲 勇1, 施建新1, 闫鸿磊1
Zdroj: Journal of Synthetic Crystals. May2023, Vol. 52 Issue 5, p918-924. 7p.
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