Atomic Layer Etching Using a Novel Radical Generation Module.

Autor:	Jung, Junho1 (AUTHOR), Kim, Kyongnam1 (AUTHOR) knam1004@dju.kr
Zdroj:	Materials (1996-1944). May2023, Vol. 16 Issue 10, p3611. 8p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.