Deposition of stoichiometry – tailored amorphous Cu-S thin films by MOCVD technique.

Autor:	Olofinjana, Bolutife1 (AUTHOR) olofinb@oauife.edu.ng, Fabunmi, Tobiloba Grace1 (AUTHOR), Efe, Frank Ochuko1 (AUTHOR), Fasakin, Oladepo1 (AUTHOR), Adebisi, Adebowale Clement1 (AUTHOR), Eleruja, Marcus Adebola1 (AUTHOR), Akinwunmi, Olumide Oluwole1 (AUTHOR), Ajayi, Ezekiel Oladele Bolarinwa1 (AUTHOR)
Zdroj:	Phase Transitions. May2023, Vol. 96 Issue 5, p361-373. 13p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.