Plasma Enhanced High-Rate Deposition of Advanced Film Materials by Metal Reactive Evaporation in Organosilicon Vapors.

Autor:	Menshakov, Andrey1,2 (AUTHOR) menshakovandrey@mail.ru, Bruhanova, Yulia1,2 (AUTHOR), Skorynina, Polina3 (AUTHOR), Medvedev, Anatoliy1 (AUTHOR)
Zdroj:	Membranes. Apr2023, Vol. 13 Issue 4, p374. 16p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.