Atomic layer deposition of hafnium oxide on porous silicon to form a template for athermal SERS-active substrates.

Autor:	Girel, K.1 (AUTHOR), Burko, A.1 (AUTHOR), Zavatski, S.1 (AUTHOR), Barysiuk, A.1 (AUTHOR), Litvinova, K.2 (AUTHOR), Eganova, E.2 (AUTHOR), Tarasov, A.3 (AUTHOR), Novikov, D.3 (AUTHOR), Dubkov, S.3 (AUTHOR), Bandarenka, H.1 (AUTHOR) h.bandarenka@bsuir.by
Zdroj:	Applied Physics A: Materials Science & Processing. Apr2023, Vol. 129 Issue 4, p1-9. 9p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.