Wet-Oxidation-Assisted Chemical Mechanical Polishing and High-Temperature Thermal Annealing for Low-Loss 4H-SiC Integrated Photonic Devices.

Autor: Shi, Xiaodong1 (AUTHOR), Lu, Yaoqin1 (AUTHOR), Chaussende, Didier2 (AUTHOR), Rottwitt, Karsten1 (AUTHOR), Ou, Haiyan1 (AUTHOR) haou@dtu.dk
Zdroj: Materials (1996-1944). Mar2023, Vol. 16 Issue 6, p2324. 8p.
Databáze: Academic Search Ultimate
Externí odkaz:
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje