Interfacial modification mechanism of ALD-SiO2/4H-SiC heterojunction by synergistic nitrogen–oxygen-atmosphere RTA.

Autor:	Huang, Feiqing1,2 (AUTHOR), Zheng, Li2 (AUTHOR) zhengli@mail.sim.ac.cn, Cheng, Xinhong2 (AUTHOR) xh_cheng@mail.sim.ac.cn, Yan, Limin1 (AUTHOR), Huang, Jianhao2 (AUTHOR), Liu, Zhongyu2 (AUTHOR)
Zdroj:	Applied Physics A: Materials Science & Processing. Dec2022, Vol. 128 Issue 12, p1-6. 6p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.