Advanced Face Mask Filters Based on PCL Electrospun Meshes Dopped with Antimicrobial MgO and CuO Nanoparticles.

Autor:	Ferreira, Carolina A. M.1,2,3,4 (AUTHOR), Guerreiro, Sara F. C.1,5,6 (AUTHOR), Valente, Joana F. A.1 (AUTHOR), Patrício, Tatiana M. F.1 (AUTHOR), Alves, Nuno1 (AUTHOR), Mateus, Artur1 (AUTHOR), Dias, Juliana R.1 (AUTHOR) juliana.dias@ipleiria.pt
Zdroj:	Polymers (20734360). Aug2022, Vol. 14 Issue 16, p3329-3329. 18p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.