Simulation of abrasive polishing process of single crystal silicon based on molecular dynamics.

Autor:	Meng, Xiaosong1 (AUTHOR), Yue, Haixia1 (AUTHOR), Wu, Weilong1 (AUTHOR), Dai, Houfu1 (AUTHOR) houfudai@163.com
Zdroj:	International Journal of Advanced Manufacturing Technology. Aug2022, Vol. 121 Issue 11/12, p7195-7211. 17p. 4 Color Photographs, 4 Diagrams, 1 Chart, 8 Graphs.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.