Effect of Boron Doping on the Interlayer Spacing of Graphite.

Autor:	Bao, Chenguang1 (AUTHOR) 18650765569@163.com, Zeng, Qing2 (AUTHOR) zengqing@stu.csust.edu.cn, Li, Fujin3 (AUTHOR) lifujin511@163.com, Shi, Lei4 (AUTHOR) lshi@shinzoom.com, Wu, Wei4 (AUTHOR) wuwei202206@163.com, Yang, Li1 (AUTHOR) hunanyangli@aliyun.com, Chen, Yuxi1 (AUTHOR) yxchen@hnu.edu.cn, Liu, Hongbo1 (AUTHOR) yxchen@hnu.edu.cn
Zdroj:	Materials (1996-1944). Jun2022, Vol. 15 Issue 12, p4203-N.PAG. 10p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.