Nanoscale Thermal Cloaking in Silicon Film: A Molecular Dynamic Study.

Autor:	Zhang, Jian1 (AUTHOR) 20B902063@stu.hit.edu.cn, Zhang, Haochun1 (AUTHOR) hczhang@hit.edu.cn, Sun, Wenbo1 (AUTHOR), Wang, Qi1 (AUTHOR), Zhang, Dong1 (AUTHOR)
Zdroj:	Materials (1996-1944). Feb2022, Vol. 15 Issue 3, p935. 1p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.