Two-Photon Direct Laser Writing Beyond the Diffraction Limit Using the Nanopositioning and Nanomeasuring Machine.

Autor:	Mohr-Weidenfeller, Laura1 (AUTHOR) laura.weidenfeller@tu-ilmenau.de, Häcker, Annika-Verena2 (AUTHOR), Reinhardt, Carsten3 (AUTHOR), Manske, Eberhard2 (AUTHOR)
Zdroj:	Nanomanufacturing & Metrology. Sep2021, Vol. 4 Issue 3, p149-155. 7p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.