Study on the asymmetry of nanopore in Al droplet etching.

Autor:	Shen, Jiaxin1,2,3 (AUTHOR), Lv, Hongliang1 (AUTHOR) hllv@mail.xidian.edu.cn, Ni, Haiqiao2,3,4 (AUTHOR) nihq@semi.ac.cn, Liu, Hanqing2,3,4 (AUTHOR), Su, Xiangbin2,3,4 (AUTHOR), Zhang, Jing5 (AUTHOR), Shang, Xiangjun2,3,4 (AUTHOR), Zhuo, Zhiyao2,6 (AUTHOR), Li, Shulun2,3,4 (AUTHOR), Chen, Yao2,3,7 (AUTHOR), Sun, Baoquan2,6 (AUTHOR), Zhang, Yu2,3,4 (AUTHOR), Niu, Zhichuan2,3,4 (AUTHOR)
Zdroj:	Optical & Quantum Electronics. Aug2021, Vol. 53 Issue 8, p1-9. 9p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.