A Selective BP/Si Contact Formed by Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition.

Autor:	Gudovskikh, A. S.1,2 (AUTHOR) gudovskikh@spbau.ru, Kudryashov, D. A.1 (AUTHOR), Baranov, A. I.1 (AUTHOR), Uvarov, A. V.1 (AUTHOR), Morozov, I. A.1 (AUTHOR)
Zdroj:	Technical Physics Letters. Jan2021, Vol. 47 Issue 1, p96-98. 3p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.