Frustrated Lewis Pair Chelation as a Vehicle for Low‐Temperature Semiconductor Element and Polymer Deposition.
Autor: | Omaña, Alvaro A.1 (AUTHOR), Green, Rachel K.1 (AUTHOR), Kobayashi, Ryo2 (AUTHOR), He, Yingjie1 (AUTHOR), Antoniuk, Evan R.1 (AUTHOR), Ferguson, Michael J.1 (AUTHOR), Zhou, Yuqiao1 (AUTHOR), Veinot, Jonathan G. C.1 (AUTHOR), Iwamoto, Takeaki2 (AUTHOR), Brown, Alex1 (AUTHOR), Rivard, Eric1 (AUTHOR) erivard@ualberta.ca |
---|---|
Zdroj: | Angewandte Chemie. 1/4/2021, Vol. 133 Issue 1, p230-233. 4p. |
Databáze: | Academic Search Ultimate |
Externí odkaz: | |
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje | K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit. |