Implantation of Silicon Ions into Sapphire: Low Doses.

Autor:	Belova, N. E.1 (AUTHOR) belova.nina@inbox.ru, Shemardov, S. G.1 (AUTHOR), Fanchenko, S. S.1 (AUTHOR), Golovkova, E. A.1 (AUTHOR), Kondratev, O. A.1 (AUTHOR)
Zdroj:	Semiconductors. Aug2020, Vol. 54 Issue 8, p912-915. 4p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.