Behavior of Some Refractory Hafnium and Tantalum Compounds in Plasma Flows.

Autor:	Baklanova, N. I.1 (AUTHOR), Lozanov, V. V.1 (AUTHOR) lozanov.25@gmail.com, Kul'kov, A. A.2 (AUTHOR), Antipov, E. A.2 (AUTHOR), Titov, A. T.3 (AUTHOR)
Zdroj:	Inorganic Materials. Mar2019, Vol. 55 Issue 3, p231-236. 6p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.