Deposition of Silicon Films Doped with Boron and Phosphorus by the Gas-Jet Plasma-Chemical Method.

Autor:	Shchukin, V. G.1 (AUTHOR), Sharafutdinov, R. G.1 (AUTHOR), Konstantinov, V. O.1 (AUTHOR) konstantinov@itp.nsc.ru
Zdroj:	Semiconductors. Jan2019, Vol. 53 Issue 1, p127-131. 5p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.