Catalysts based on Fenton reaction for SiC wafer in chemical magnetorheological finishing.

Autor:	Liang, Huazhuo1, Lu, Jiabin1 lujiabin@gdut.edu.cn, Yan, Qiusheng1
Zdroj:	AIMS Materials Science. 2018, Vol. 5 Issue 6, p1112-1123. 12p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.