Influence de la température de substrat sur la croissance et les propriétés des films minces de silicium amorphe déposés par pulvérisation cathodique.
Autor: | Abdesselem, S.1, Ouhab, A.2, Aida, M. S.2 s.aida@caramail.com |
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Zdroj: | Canadian Journal of Physics. Nov2003, Vol. 81 Issue 11, p1293-1302. 10p. |
Databáze: | Academic Search Ultimate |
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