Curvas de presión para el crecimiento de recubrimientos de TiAlN por la técnica Magnetrón Sputtering Tríodo.

Autor: Devia Narváez, Diana Marcela1 dmdevian@utp.edu.co, Devia Narváez, Diego Fernando2, duque Sánchez, Harold2
Zdroj: Scientia et Technica. dic2013, Vol. 18 Issue 4, p646-650. 5p.
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