Solution Layer Deposition: A Technique for the Growth of Ultra-Pure Manganese Oxides on Silica at Room Temperature.

Autor:	Cure, Jérémy1,2,3, Piettre, Kilian1,2,3, Coppel, Yannick1,2 yannick.coppel@lcc-toulouse.fr, Beche, Eric4, Esvan, Jérôme5, Collière, Vincent1,2, Chaudret, Bruno6, Fau, Pierre1,2 pierre.fau@lcc-toulouse.fr
Zdroj:	Angewandte Chemie. Feb2016, Vol. 128 Issue 9, p3079-3082. 4p.
Databáze:	Academic Search Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.