Stability of low pressure chemical vapour deposition amorphous silicon

Autor:	Kostana, M *, Jang, J, Pietruszko, S.M
Zdroj:	In Thin Solid Films 1999 337(1):78-81
Databáze:	ScienceDirect
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Full Text from ScienceDirect