In(x)Al(1-x)As Bileşik Yarıiletken Malzemelerde Kalıcı Fotoiletkenlik

Autor: SARI, Hüseyin, WİEDER, Harry H.
Rok vydání: 2006
Předmět:
Zdroj: Volume: 8, Issue: 1 38-45
Balıkesir Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Dergisi
ISSN: 1301-7985
2536-5142
Popis: Inx 1-xAs bileşik yarıiletken malzemelerde kalıcı fotoiletkenlik etki indiyum komposizyonuna bağlı olarak incelendi. InxAl1-xAs bileşiği (0.10 ≤ x ≤ 0.34 ), daha düşük enerji aralığına sahip olan InyGa1-yAs ile birlikte heteroyapı oluşturmaya elverişli olacak şekilde yarıyalıtkan GaAs alttaşı üzerinde molekül demetli epitaksi (MBE) yöntemi kullanılarak büyütüldü ve InxAl1-xAs katmanı büyütme sırasında silikon ile düzlemsel olarak katkılandı. Alttaş ile film arasında oluşan örgü uyuşmazlığı, basamak şeklinde tampon ara filmler büyütülerek giderildi. Kalıcı fotoiletkenlik etki, InxAl1-xAs/InyGa1-yAs arayüzeyde oluşan iki boyutlu elektron gaz yoğunluğu sıcaklığın fonksiyonu ve optik uyarılmaya bağlı olarak Hall yöntemi ile ölçüldü. Kritik sıcaklık TC=200 ± 10 K olarak bulundu. İncelenen örneklerin hepsinde fotoiletkenlik gözlendi ve fotoiletkenliğin en büyük değeri In0.15Al0.85As bileşiğinde ölçüldü
The persistent photoconductivity effect in InxAl1-xAs compound semiconductors has been investigated as a function of indium composition. Different InxAl1-xAs epitaxial layers (0.10 ≤ x ≤ 0.34) in a InxAl1-xAs/ InxGa1-xAs like heterostructure were grown by molecular beam epitaxy on (001) GaAs substrate and InxAl1-xAs layer was δ-doped with silicon. In order to compensate the lattice mismatch between epitaxial layers and their substrate, step graded buffer layer was used. The carrier concentration in the InxAl1-xAs/ InxGa1-xAs interface as a function of temperature and optical excitation has been measured. Critical temperature for these compounds is estimated to be as TC=200 ± 10 K. PPC effect was observed in all samples with the highest percent change in In0.15Al0.85As sample
Databáze: OpenAIRE