Highly reliable copper dual-damascene interconnects with self-formed MnSixOy barrier layer

Autor: Usui, Takamasa, Nasu, Hayato, Takahashi, Shingo, Shimizu, Noriyoshi, Nishikawa, T., Yoshimaru, Masaki, Shibata, Hideki, Wada, Makoto, Koike, Junichi
Jazyk: angličtina
Rok vydání: 2006
Předmět:
Zdroj: IEEE transactions on electron devices. 53(10):2492-2499
ISSN: 0018-9383
Databáze: OpenAIRE