Effect of Silicon Application on Wheat Under Boron Stress
| Autor: | İbrahim Ertan Erkan |
|---|---|
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2019 |
| Předmět: |
021110 strategic
defence & security studies Chemistry 0211 other engineering and technologies Bor toksisitesi Silisyum uygulaması Buğday bor stresi Membran hasarı Bağıl su içeriği Klorofil içeriği 02 engineering and technology General Medicine Boron toxicity Silicon treatment Wheat boron stress Membran damage Relative water content Chlorophyll content 01 natural sciences 010406 physical chemistry 0104 chemical sciences |
| Zdroj: | Volume: 23, Issue: 3 743-747 |
| ISSN: | 1308-6529 |
| Popis: | Bu araştırmada, bor (B) stresi altındaki buğdaybitkisinde farklı silisyum (Si) konsantrasyonlarının (0.75, 5, 10 mM) etkisi, dokuuzunluğu, malondialdehit (MDA), iyon sızıntısı, bağıl su içeriği (RWC) vetoplam klorofil içeriği gibi bazı stres göstergeleri aracılığıylaincelenmiştir. Silisyumun stres azaltıcı etkisi membran hasarınıniyileştirilmesi ile MDA ve iyon sızıntısı seviyelerinin pozitif düzenlenmesiüzerinde gözlenmiştir. Bor (B) stresi nedeniyle gövde dokularında nekrozmeydana gelmesine rağmen silisyum uygulamasının sürgün ve kök uzunluklarıüzerinde önemli bir değişiklik gerçekleştirmediği gözlemlenmiştir. Ancak tamaksine bağıl su içeriği (RWC), bor stresi altında silisyum uygulanması ilepozitif olarak değişmiştir. Ayrıca silisyum ve bor stresinin (Si+B) birlikteuygulandığı setlerde silisyum, bağıl su içeriğini kontrol bitkilerindekiseviyelere kadar artırmaktadır. Toplam klorofil içeriği 0.75 ve 5 mM silisyumvarlığı ile artarken 10 mM silisyumun bor stresi altında klorofil içeriğineherhangi bir etkisi olmamıştır. Genel olarak, silisyumun buğday üretiminde borstresini azaltıcı bir potansiyele sahip olduğu bulunmuştur. In this study, effects of different silicon (Si)concentrations (0.75, 5, 10 mM) on wheat under boron(B) stress, investigated bymeans of some stress indicators such as tissue length, malondialdehyde (MDA),ion leakage, relative water content (RWC) and total chlorophyll content. Stressmitigating effects of silicon were observed mainly as reductions on membranedamage with reduced MDA concentrations and decreased ion leakage levels. Althoughnecrosis was present on shoot tissues due to the boron stress, no significantchange observed on shoot and root length with the application of Si. On thecontrary, relative water content (RWC) has changed positively with theimplementation of Si under boron stress. Furthermore Si has enhanced RWC levelin Si+B co-applicated sets to the level of control plants. Total chlorophyllcontent increased with the existance of 0.75 and 5 mM Si, while 10 mM Si had noeffect on the chorophyll content under boron stress. Overall, silicon was foundto have a potential to alleviate boron stress in wheat production. |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|