Mechanism of Tin-Induced Crystallization in Amorphous Silicon

Autor: A. O. Goushcha, V. Melnyk, Viktor Dan’ko, P.E. Shepeliavyi, A. G. Kuzmich, V. B. Neimash, Volodymyr O. Yukhymchuk
Rok vydání: 2014
Předmět:
Zdroj: Scopus-Elsevier
Ukrainian Journal of Physics; Vol. 59 No. 12 (2014); 1168
Український фізичний журнал; Том 59 № 12 (2014); 1168
ISSN: 2071-0194
2071-0186
DOI: 10.15407/ujpe59.12.1168
Popis: Formation of Si nanocrystals in amorphous Si-metallic Sn film structures has been studied experimentally, by using the Auger spectroscopy, electron microscopy, and Raman scattering methods. The results are analyzed in comparison with recent results on the crystallization of tin-doped amorphous Si. A mechanism of silicon transformation from the amorphous to the nanocrystalline state in the eutectic layer at the Si–Sn interface is proposed. The mechanism essence consists in a cyclic repetition of the processes of formation and decay of the Si–Sn solution. The application aspect of this mechanism for the fabrication of nanosilicon films used in solar cells is discussed.
Методами оже-спектроскопiї, електронної мiкроскопiї та комбiнацiйного розсiювання свiтла експериментально дослiджено формування нанокристалiв Si в плiвкових структурах аморфний Si–металеве Sn. Результати проаналiзованi в сукупностi з недавнiми даними про кристалiзацiю аморфного Si, легованого оловом. Запропоновано механiзм трансформацiї кремнiю iз аморфного у нанокристалiчний стан у евтектичному шарi на iнтерфейсi Si–Sn. Суть механiзму полягає у циклiчному повтореннi процесiв утворення i розпаду розчину Si у Sn. Розглянуто прикладний аспект використання цього механiзму у виробництвi плiвкового нанокремнiю для сонячних елементiв.
Databáze: OpenAIRE