Formation of the Elusive Silylenemethyl Radical (HCSiH2; X2B2) via the Unimolecular Decomposition of Triplet Silaethylene (H2CSiH2; a3A″)

Autor: Chao He, Aaron M. Thomas, Beni B. Dangi, Tao Yang, Ralf I. Kaiser, Huan-Cheng Lee, Bing-Jian Sun, Agnes H. H. Chang
Rok vydání: 2022
Předmět:
Zdroj: The Journal of Physical Chemistry A. 126:3347-3357
ISSN: 1520-5215
1089-5639
DOI: 10.1021/acs.jpca.2c01853
Databáze: OpenAIRE