EUV Resist Materials Design for 15 nm Half Pitch and Below
Autor: | Takahiro Goto, Hiroo Takizawa, Shinji Tarutani, Naoki Inoue, Hideaki Tsubaki |
---|---|
Rok vydání: | 2013 |
Předmět: | |
Zdroj: | Journal of Photopolymer Science and Technology. 26:649-657 |
ISSN: | 1349-6336 0914-9244 |
Databáze: | OpenAIRE |
Externí odkaz: |