Depth of focus in high-NA EUV lithography: a simulation study

Autor:	Anatoly Burov, Alessandro Vaglio Pret, Roel Gronheid
Rok vydání:	2022
Zdroj:	Photomask Technology 2022.
DOI:	10.1117/12.2642695
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8740487c009cc56864fdd8e7fd4e129a https://doi.org/10.1117/12.2642695 Zobrazit plný text záznamu