Spectral clustering algorithm for real‐time endpoint detection of silicon nitride plasma etching
| Autor: | Seonghyeon Lee, Hojun Choi, Jaehyeon Kim, Heeyeop Chae |
|---|---|
| Rok vydání: | 2023 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Plasma Processes and Polymers. |
| ISSN: | 1612-8869 1612-8850 |
| DOI: | 10.1002/ppap.202200238 |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
|
Plný text