Advances in Photoresist Based Processing Tools for 3-Dimensional Precision and Micro Mechanics

Autor:	J. Klein, D.P. Siddons, J.D. Zook, T.R. Christenson, E.D. Johnson, H. Guckel, T. Earles, P.S. Mangat, H. Emmerich, S. Massoud-Ansari, Thomas R. Ohnstein
Rok vydání:	1996
Předmět:	Dimensional precision Materials science Micromechanics Nanotechnology Photoresist
Zdroj:	1996 Solid-State, Actuators, and Microsystems Workshop Technical Digest.
DOI:	10.31438/trf.hh1996.14
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::44ab7adbf0faa7d0abb3a22631862d25 https://doi.org/10.31438/trf.hh1996.14 Zobrazit plný text záznamu