Low-Temperature Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Deposition of Silicon Dioxide Films from Tetraethoxysilane

Autor:	A. S. Bil’, S. E. Aleksandrov
Rok vydání:	2022
Předmět:	General Chemical Engineering General Chemistry
Zdroj:	Russian Journal of Applied Chemistry. 95:544-550
ISSN:	1608-3296 1070-4272
Databáze:	OpenAIRE
Externí odkaz:	https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::364d198091389bf15f238117390d390f https://doi.org/10.1134/s1070427222040103 Zobrazit plný text záznamu Full text from SpringerLink