HfO2-based ferroelectric thin film and memory device applications in the post-Moore era: A review

Autor: Jiajia Liao, Siwei Dai, Ren-Ci Peng, Jiangheng Yang, Binjian Zeng, Min Liao, Yichun Zhou
Rok vydání: 2023
Předmět:
Zdroj: Fundamental Research. 3:332-345
ISSN: 2667-3258
DOI: 10.1016/j.fmre.2023.02.010
Databáze: OpenAIRE