Line-edge roughness transfer during plasma etching: modeling approaches and comparison with experimental results
| Autor: | Kokkoris, G., Constantoudis, V., Patsis, G., Gogolides, E., Pargon, E., Martin, M. |
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| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle, Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2009 |
| Zdroj: | SPIE, advanced lithography SPIE, advanced lithography, 2009, san jose, United States |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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