All dry CVD-based resist for advanced lithography processes
| Autor: | Monget, C., Joubert, O., Vallier, L., Weidman, T. |
|---|---|
| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Clot, Marielle, Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2000 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | 196th Meeting of the Electrochemical Society (ECS) 196th Meeting of the Electrochemical Society (ECS), 2000, Toronto, Canada |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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