Procédés de dépôt plasma avec injection pulsée de précurseurs (PECVD et PEALD) : Impact du réacteur et de la pression et développement de dépôts sélectifs
| Autor: | Vallee, C., Gassilloud, R., Vallat, R., Pesce, V., Belahcen, S., Chaker, A., Salicio, O., Posseme, N., Gonon, P., Bonvalot, M., Bsiesy, A. |
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| Přispěvatelé: | Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM ), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Grenoble Alpes [2016-2019] (UGA [2016-2019]), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Laboratoire Trafic Membranaire (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), Centre Interuniversitaire de Micro-Electronique (CIME), Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG), Clot, Marielle |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2018 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | Journées du réseau plasma froid Journées du réseau plasma froid, Oct 2018, La Rochelle, France |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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