Challenges related to linewidth roughness
| Autor: | Pargon, Erwine, Azarnouch, Laurent, Menguelti, Kevin, Fouchier, Marc, Brihoum, Melisa, Ramos, Raphael, Tiron, Raluca, Joubert, Olivier, Vérove, Christophe, Posseme, Nicolas, Vallier, Laurent, Cunge, Gilles, Darnon, Maxime, Banna, Samer, Lill, Torsten |
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| Přispěvatelé: | Darnon, Maxime, Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI), Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)), Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA), STMicroelectronics [Crolles] (ST-CROLLES), Applied Materials, Santa Clara, Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| Jazyk: | angličtina |
| Rok vydání: | 2012 |
| Předmět: | |
| Zdroj: | China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC) China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2012, Shanghai, China |
| Popis: | International audience |
| Databáze: | OpenAIRE |
| Externí odkaz: |
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