Advanced processes for 193-nm immersion lithography. [electronic resource]

Autor:	Wei, Yayi
Další autoři:	Brainard, Robert L. ProQuest (Firm)
Jazyk:	angličtina
Informace o vydání:	Bellingham, Wash. : SPIE Press, c2009.
Předmět:	Immersion lithography Semiconductors -- Etching Integrated circuits -- Design and construction Electronic books
Druh dokumentu:	Bibliographies; Electronic; Non-fiction; Electronic document
Databáze:	Vybrané kolekce e-knih
Externí odkaz:	Kolekce e-knih KNAV Registrovani uzivatele: plny text online 5 minut, dalsi pristup na vyzadani. Registered users: full text online 5 minutes, further access on request.