Interfacial reaction and thermal stability of Ta[sub 2]O[sub 5]/TiN for metal electrode capacitors.

Autor:	Chang, J.P., Opila, R.L., Alers, G.B., Steigerwald, M.L., Lu, H.C., Garfunkel, E., Gustafsson, T.
Zdroj:	Solid State Technology. Feb99, Vol. 42 Issue 2, p43. 4p. 6 Graphs.
Databáze:	Business Source Ultimate
Externí odkaz:	Zobrazit plný text záznamu Plný text ve formátu HTML
Nepřihlášeným uživatelům se plný text nezobrazuje	K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.